Астана, ул. Мәңгілік Ел, 11/1 +7 (7172) 57-43-21 info@ksm.kz
ISO

ISO 16531:2013

ISO 16531:2013
Действующий

Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирование примеси по глубине в AES и XPS

Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирование примеси по глубине в AES и XPS

Страниц 26
Язык Английский (Великобритания)
МКС 71.040.40
Разработчик Госстандарт России
Дата регистрации 16.05.2013
Действует с 16.05.2013