ГОСТ

ГОСТ 25196-82

Действующий

Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Страниц 3

Язык Русский

МКС 23.160

Разработчик Республиканским государственным предприятием на праве хозяйственного ведения «Республиканский центр развития здравоохранения» Министерства здравоохранения Республики Казахстан

Дата регистрации 01.07.1983

Действует с 01.07.1983

Аннотация

Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации (далее - установки), предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,660 57·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования до 217,534 67·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования до 1,6·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники.

Приказ о введении

Постановлением Государственного комитета СССР по стандартам от 31 марта 1982 г. N 1383 срок действия установлен с 01.07.1983 г. до 01.07.1988 г.*