ГОСТ Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Наименование: Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Обозначение: ГОСТ 25196-82

Категория: ГОСТ

МКС: 23.160

Количество страниц: 3

Разработчик: Республиканским государственным предприятием на праве хозяйственного ведения «Республиканский центр развития здравоохранения» Министерства здравоохранения Республики Казахстан

Статус: Действует

Дата регистрации: 01.07.1983

Дата действия с: 01.07.1983

Приказ: Постановлением Государственного комитета СССР по стандартам от 31 марта 1982 г. N 1383 срок действия установлен с 01.07.1983 г. до 01.07.1988 г.*

Язык: Русский

Аннотация: Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации (далее - установки), предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,660 57·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования до 217,534 67·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования до 1,6·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники.

Открыть стандарт

ГОСТ 25196-82. Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования